Vidraria laboratorial de PTFE (Teflon)
Cesto de Limpeza para Fotomasco Personalizado em PTFE Resistente à Corrosão de 6 Polegadas com Duas Alças
Número do item : PL-CP05
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Material
- Politetrafluoretileno (PTFE) de Alta Pureza
- Tamanho do Substrato
- Máscaras Fotográficas/Wafers de 6 polegadas (152,4mm)
- Faixa de Temperatura
- -200°C a +260°C
Envio:
Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.
Por Que Nos Escolher
Processo de pedido fácil, produtos de qualidade e suporte dedicado para o sucesso do seu negócio.
Visão Geral do Produto


Este transportador de substratos de alto desempenho é projetado para os ambientes químicos úmidos mais exigentes, fornecendo uma solução inigualável para o transporte e limpeza de fotomascos e wafers delicados de 6 polegadas. Fabricado com Polytetrafluoroetileno (PTFE) de ultra pureza, o sistema oferece um nível de inércia química essencial para manter a integridade de componentes eletrônicos sensíveis. Sua construção robusta é projetada para suportar imersão contínua em banhos de química de gravação agressiva e solventes, garantindo que a fase crítica de limpeza da fabricação de semicondutores permaneça eficiente e livre de contaminação. Ao utilizar este equipamento especializado, as instalações podem reduzir significativamente o risco de danos ao substrato e variabilidade do processo.
Utilizado principalmente em salas limpas de semicondutores, linhas de produção de células solares e laboratórios de pesquisa avançada, esta unidade se destaca em aplicações que vão desde a limpeza RCA até o ataque com ácido fluorídrico. A arquitetura do transportador é otimizada para operações baseadas em imersão, fornecendo uma plataforma segura e estável para os substratos à medida que passam por vários estágios de enxágue e secagem. Seja integrado em bancadas úmidas manuais ou sistemas de processamento automatizados, este equipamento fornece a estabilidade mecânica e a pureza do material necessárias para alcançar resultados de alto rendimento em fluxos de trabalho de micro e nanofabricação.
A confiança neste sistema está enraizada nas propriedades excepcionais de sua construção em fluoropolímero e usinagem CNC de precisão. A resistência inerente do material ao choque térmico e degradação química garante uma longa vida útil mesmo sob condições operacionais extremas. Os compradores industriais podem confiar na integridade estrutural do design de duas alças, que promove um manuseio seguro e evita inclinação acidental ou vibração durante o ciclo de limpeza. Este compromisso com a excelência de engenharia garante que a unidade permaneça um ativo confiável em ambientes industriais de alto volume, onde tempo de atividade e precisão são primordiais.
Características Principais
- Inércia Química Superior: Fabricado com PTFE virgem 100%, este sistema é completamente resistente a quase todos os produtos químicos conhecidos, incluindo água régia, ácido fluorídrico e ácido sulfúrico concentrado. Isso garante que o transportador não se degradará, descamará ou lixiviará contaminantes para o banho de processo, preservando a alta pureza necessária para análise de traços e fabricação de semicondutores.
- Arquitetura Otimizada de Duas Alças: A configuração integrada de duas alças é projetada para fornecer máxima estabilidade durante transferências manuais. Ao distribuir o centro de gravidade uniformemente, as alças impedem que o cesto balance ou incline quando submerso ou levantado, o que é crítico para proteger fotomascos frágeis de 6 polegadas de impacto físico ou deslocamento.
- Design Avançado de Dinâmica de Fluidos: A base e as superfícies de suporte possuem uma grade de orifícios de drenagem cientificamente projetada. Este padrão é projetado para minimizar a tensão superficial e facilitar a rápida troca de fluido. Durante a imersão, garante fluxo laminar através das superfícies do substrato; durante a remoção, permite drenagem instantânea para evitar o "arraste" de produtos químicos e acelerar o processo de secagem.
- Ranhuras de Substrato Usinadas com Precisão: Cada ranhura é usinada em CNC com tolerâncias rigorosas, apresentando pontos de contato suaves e arredondados. Este design acomoda com segurança substratos de 6 polegadas, prevenindo micro-riscos e vibrações durante a limpeza ultrassônica ou ciclos de alta agitação, enquanto garante que toda a área superficial da máscara permaneça acessível aos agentes de limpeza.
- Controle de Contaminação Livre de Metais: Como a unidade é fabricada inteiramente com fluoropolímeros de alto grau sem o uso de fixadores ou componentes metálicos, não há risco de lixiviação de íons metálicos. Isso torna o sistema ideal para aplicações de alta pureza, onde mesmo contaminação na ordem de partes por bilhão pode comprometer o desempenho do dispositivo eletrônico final.
- Ampla Faixa de Temperatura de Operação: As propriedades do material permitem que o transportador mantenha sua rigidez estrutural em um vasto espectro de temperatura, desde níveis criogênicos até +260°C. Isso permite que a unidade seja usada em banhos de ácido fosfórico quente ou enxágues com solventes frios sem risco de empenamento, rachaduras ou instabilidade dimensional.
- Alta Rejeição de Energia Superficial: A superfície naturalmente de baixo atrito e antiaderente do material PTFE impede a adesão de partículas e biofilmes. Esta característica de "autolimpeza" simplifica a manutenção do próprio transportador, garantindo que ele não se torne uma fonte de contaminação cruzada entre diferentes lotes de wafers.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Benefício Principal |
|---|---|---|
| Limpeza RCA de Semicondutores | Imersão sequencial de wafers de silício em soluções SC-1 e SC-2 para remover contaminantes orgânicos e metálicos. | Resistência total a agentes oxidantes e ácidos de alta temperatura garante nenhuma degradação do transportador. |
| Gravação de Fotomascos | Segurar fotomascos de 6 polegadas durante a remoção de camadas de cromo ou outras camadas bloqueadoras de luz usando gravantes agressivos. | Posicionamento seguro evita vibração da máscara, garantindo transferência de padrão de alta fidelidade e zero risco de arranhões na superfície. |
| Texturização de Células Solares | Processo de criação de micro-pirâmides em superfícies de silício usando misturas de KOH ou HF/HNO3 para melhorar a absorção de luz. | Design durável de duas alças permite manuseio seguro em ambientes industriais de alto volume e tanques profundos. |
| MEMS & Microfluídica | Limpeza e gravação de substratos de vidro ou silício usados na fabricação de Sistemas Micro-Eletro-Mecânicos. | A pureza do material evita a introdução de impurezas traço que poderiam interferir na função do dispositivo em microescala. |
| Utensílios de Laboratório para Análise de Traços | Segurar béqueres, tampas ou pequenos componentes durante limpeza especializada com vapor de ácido ou imersão. | Ausência garantida de íons metálicos (livre de íons) o torna o padrão ouro para suporte em análise de elementos ultra-traço. |
| Preparação de Vidro Condutivo | Limpeza de substratos de vidro revestidos com ITO ou FTO para pesquisa de células solares OLED ou de perovskita. | O design em grade permite contato completo do fluido com a camada condutiva enquanto protege as bordas do substrato. |
| Revelação Química Úmida | Transportar wafers revestidos com fotoresist expostos através de soluções reveladoras em fluxos de trabalho de litografia. | Estabilidade química em vários reveladores orgânicos garante resultados consistentes e zero interação com o material. |
Especificações Técnicas
| Parâmetro | Detalhes da Especificação (Modelo: PL-CP05) |
|---|---|
| Material Primário | Polytetrafluoroetileno (PTFE) Virgem de Alta Pureza 100% |
| Compatibilidade com Substrato | Fotomascos, Wafers ou Vidro Padrão de 6 polegadas (152,4 mm) |
| Configuração das Alças | Suporte Reforçado de Duas Alças para levantamento vertical balanceado |
| Resistência à Temperatura | -200°C a +260°C (-328°F a +500°F) |
| Compatibilidade Química | Universal (Todos os ácidos, bases, solventes orgânicos e soluções piranha) |
| Configuração das Ranhuras | Largura, espaçamento e capacidade total personalizáveis (padrão 10/25 ranhuras) |
| Características Estruturais | Base em grade usinada em CNC para drenagem rápida; pontos de contato com a amostra arredondados |
| Acabamento Superficial | Superfície de PTFE usinada lisa e não porosa (Baixo atrito) |
| Altura das Alças | Personalizável para atender a profundidades específicas do tanque de limpeza |
| Conteúdo Metálico | Zero (Construção livre de metais) |
Por Que Escolher o PL-CP05
- Seleção Premium de Material: Usamos apenas o mais alto grau de PTFE, frequentemente chamado de "Rei dos Plásticos", garantindo que o transportador forneça uma vida útil de serviço mesmo nos ambientes mais corrosivos conhecidos pela indústria moderna.
- Precisão CNC Inigualável: Diferente de alternativas moldadas que podem ter tensões internas ou espessuras de parede inconsistentes, nossos transportadores são usinados em CNC a partir de blocos sólidos. Isso resulta em estabilidade dimensional superior e um acabamento profissional que atende aos padrões de sala limpa.
- Mitigação de Risco para Ativos Delicados: A geometria interna arredondada e o ranhurado seguro são especificamente projetados para proteger substratos de alto valor de 6 polegadas. Ao escolher este sistema, você está investindo em um transportador que minimiza o risco de quebra ou defeitos superficiais.
- Engenharia Totalmente Personalizável: Entendemos que cada laboratório e linha de produção tem requisitos únicos. Oferecemos personalização de ponta a ponta, permitindo que você especifique as dimensões exatas, altura das alças e número de ranhuras necessárias para otimizar seu fluxo de trabalho específico.
- Confiabilidade Comprovada em Setores de Alta Pureza: Nossas soluções em fluoropolímero são confiadas por fábricas de semicondutores líderes e instituições de pesquisa em todo o mundo. Escolher este equipamento significa escolher um produto respaldado por anos de experiência em materiais de alto desempenho.
Para equipes de compras e gerentes de laboratório que necessitam de uma solução sob medida para processos de limpeza especializados, nossa equipe de engenharia está pronta para ajudar. Entre em contato conosco hoje para fornecer suas especificações para um cesto de limpeza em PTFE personalizado ou para receber uma cotação formal para a série PL-CP05.
Confiado pelos Líderes da Indústria
Folha de Dados do Produto
Cesto de Limpeza para Fotomasco Personalizado em PTFE Resistente à Corrosão de 6 Polegadas com Duas Alças
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados
Suporte de Cesto de Limpeza de Laboratório em PTFE Personalizado – Porta Wafer Resistente a Ácidos e Bases de Alta Pureza, Sem Contaminação de Baixo Ruído de Fundo para Banhos Químicos
Descubra suportes de cesto de limpeza em PTFE personalizados de alta pureza desenvolvidos para semicondutores e análise de traços. Esses suportes resistentes a ácidos garantem lixiviação zero e níveis de fundo ultra-baixos, fornecendo desempenho confiável nos ambientes químicos mais exigentes para processos de limpeza laboratorial de precisão.
Cesto de Limpeza de Wafers PTFE 4 Polegadas Rack de Gravação Resistente a Ácidos e Alcalis Portador de Máscaras Personalizado
Cestos de gravação em PTFE de engenharia de precisão, projetados para limpeza de wafers semicondutores e processamento químico. Estes racks de limpeza resistentes a ácidos e de alta pureza garantem contaminação zero em ambientes de laboratórios exigentes. Totalmente personalizáveis para atender dimensões específicas de máscaras industriais e wafers para aplicações avançadas de fabricação e pesquisa.
Cesto de Limpeza Personalizado para Wafer de Semicondutor em PTFE - Suporte de Laboratório Resistente à Corrosão com Baixo Nível de Impurezas
Alcance pureza superior na fabricação de semicondutores com nossos cestos de limpeza personalizados em PTFE. Projetados para resistência química extrema e baixa interferência de fundo, esses suportes duráveis garantem processamento eficiente de wafers, drenagem rápida e desempenho confiável em ambientes de laboratório críticos de alta pureza.
Cesta de Limpeza Úmida em PTFE de Alta Pureza, Suporte de Gravação para Wafer Único de 4 Polegadas, Porta-máscaras Personalizável
Cestas de limpeza úmida em PTFE de alta pureza oferecem resistência química excepcional para processamento de wafers semicondutores. Esses suportes de gravação personalizáveis garantem limpeza por imersão sem contaminação e manuseio seguro para substrados delicados em ambientes laboratoriais e industriais exigentes. Entre em contato para soluções de fluoropolímero sob medida.
Fabricante de peças de teflon PTFE personalizadas Rack de limpeza PTFE
Cestos para flores em PTFE de elevada pureza para utilização em laboratórios e semicondutores. Resistente a produtos químicos, -180°C a +250°C, tamanhos personalizados disponíveis. Contacte a KINTEK hoje mesmo!
Cesta em PTFE Politetrafluoretileno para Limpeza de Pastilhas de Silício Pequenas, Porta-Amostras para Decapagem Ácida em Laboratório
Esta cesta de alta pureza em PTFE oferece excecional resistência química para limpeza de pastilhas de silício e decapagem ácida. Concebida para aplicações laboratoriais de precisão, garante penetração uniforme do fluido e manuseamento sem contaminação de substratos semicondutores delicados em ambientes químicos agressivos.
Cesta de Limpeza de Wafer de PTFE de Alta Pureza Portador de Wafer de Silício Resistente a Ácidos Suporte de Gravação em Fluoropolímero
Garanta processamento de semicondutores livre de contaminação com nossas cestas de limpeza de wafer de PTFE de alta pureza. Projetadas para gravação e limpeza agressivas, esses portadores personalizáveis oferecem resistência química excepcional e estabilidade térmica para o manuseio de wafers de silício durante processos críticos de fabricação química úmida.
Cesto de Limpeza de PTFE para Semicondutores Suporte de Gravação a Úmido para Wafers de 12 Polegadas Resistente a Ácidos e Alcalis Portador de Fluoropolímero
Projetado para ambientes de semicondutores de alta pureza, este cesto de limpeza de wafers de PTFE de 12 polegadas garante excepcional resistência química durante processos críticos de gravação a úmido e limpeza. O design fabricado sob medida fornece suporte confiável para o wafer e máxima exposição a fluidos para fabricação de precisão.
Cesta de Limpeza de Wafer Quadrada de PTFE Suporte de Gravação de Fluoropolímero para Semicondutores Portador Personalizado de Wafer de Silício
Otimize os processos de bancada úmida para semicondutores com nossas cestas de limpeza quadradas personalizadas de PTFE. Projetados para resistência química extrema e manuseio de alta pureza, esses portadores de fluoropolímero oferecem durabilidade e precisão superiores para processos críticos de limpeza e gravação de wafer de silício.
Cesto Floral Quadrado de PTFE para Limpeza de Wafers de Silício Personalizável para Gravação a Úmido de Semicondutores e Manuseio de Substratos
Cestos florais de limpeza quadrada de PTFE de alta pureza projetados para processamento de wafers de silício. Este suporte resistente à corrosão garante gravação a úmido segura e manuseio de substratos na fabricação de semicondutores. Dimensões e configurações totalmente personalizáveis estão disponíveis para atender aos requisitos específicos de bancadas úmidas de laboratório ou industriais.
Fabricante de peças de teflon PTFE personalizadas Rack de limpeza de substrato de vidro condutor
Cestos de flores em PTFE de alta pureza para limpeza em laboratório, resistentes a produtos químicos e temperaturas extremas. Desenhos personalizados disponíveis para aplicações médicas e de semicondutores.
Porta-Wafer de PTFE de 6 Polegadas para Limpeza por Gravura Úmida, Resistente a Ácidos e Alcalis, Transportador de Wafer de Fluoropolímero
Portas-wafer de limpeza de PTFE de 6 polegadas de alta pureza, projetadas para processos agressivos de gravura úmida. Esses transportadores de fluoropolímero resistentes a ácidos oferecem estabilidade química excepcional e contaminação ultrabaixa para fabricação de semicondutores e aplicações exigentes de análise de traços em laboratório e processamento químico.
Cesta de Limpeza de Wafers em PTFE Personalizada, Resistente a Produtos Químicos, Suporte em Fluoropolímero para Gravação de Semicondutores e Processamento de Nova Energia
Otimize sua fabricação de semicondutores e nova energia com cestas de limpeza de wafers em PTFE personalizadas. Projetadas para resistência química extrema durante a gravação e limpeza RCA, esses suportes de fluoropolímero de alta pureza garantem a integridade do processo e durabilidade de longo prazo em ambientes industriais exigentes.
Cesta de Limpeza de Porta-Wafer Personalizada em PTFE: Resistente à Corrosão, Não Lixiviante e Suporte para Experimentos de Polímeros de Alto Desempenho
Porta-wafers de PTFE personalizados e cestos de limpeza de alto desempenho projetados para pesquisa de semicondutores e polímeros. Com excelente resistência à corrosão e propriedades de lixiviação zero, essas soluções sob medida garantem processamento livre de contaminação em ambientes químicos exigentes para aplicações laboratoriais e industriais de alta precisão atualmente.
Suporte Circular para Wafers de PTFE de 6 Polegadas Resistente a Ácidos e Álcalis Cesta de Limpeza para Semicondutores Personalizável
Suportes circulares para wafers de PTFE de 6 polegadas de alta pureza, projetados para limpeza de semicondutores. Excelente resistência a ácidos e álcalis para limpeza piranha e etching com HF. Cestas usinadas com precisão e totalmente personalizáveis garantem o manuseio seguro de substratos durante rigorosos processos químicos úmidos, banhos de imersão e enxágue ultrassônico.
Cestos de Limpeza de Wafer em PTFE Personalizados Suportes de Wafer de Silício para Semicondutores Cassetes de Fluoropolímero de Baixo Background
Cestos de limpeza de wafer em PTFE personalizados de alta pureza para processamento de semicondutores. Projetados para análise de traços com baixo background e resistência química agressiva, esses cassetes de fluoropolímero personalizados garantem dissolução zero e manuseio sem contaminação de wafers de silício em ambientes de sala limpa críticos e laboratórios industriais.
Colher de Amostragem e Cesta de Limpeza em PTFE Resistente à Corrosão para Manipulação de Reagentes em Tanques Ácidos
Colher de amostragem e cesta de limpeza em PTFE de alta pureza projetadas para ambientes corrosivos. Garanta a integridade do reagente e a segurança do operador com construção em fluoropolímero quimicamente inerte e não contaminante. Projetos personalizáveis disponíveis para análise de traços, lixiviação ácida e fluxos de trabalho laboratoriais exigentes.
Suporte de Limpeza Personalizado em PTFE Tipo Cesto de Flores, Resistente à Corrosão e de Baixo Background, Transportador de Wafer para Pesquisa Avançada de Polímeros
Descubra os nossos suportes de limpeza personalizados em PTFE de alta pureza tipo cesto de flores, projetados para resistência química extrema e desempenho de baixo background em pesquisas de materiais avançados. Estas soluções fabricadas com precisão garantem um enxágue eficiente e processamento livre de contaminação para aplicações laboratoriais e industriais exigentes de semicondutores.
Fabricante de peças de teflon PTFE moldadas personalizadas para laboratório ITO FTO Cesto de flores para limpeza de vidro condutor
Cestos para flores em PTFE de elevada pureza para utilização em semicondutores e laboratórios. Resistentes a produtos químicos, com desenhos personalizados disponíveis. Ideal para bolachas de silício e substratos de vidro.
Portador de Wafers Circulares de 6 Polegadas em PTFE Resistente a Ácidos e Álcalis Cesto de Limpeza de Semicondutores Personalizável
Portadores de wafers de 6 polegadas em PTFE de alta pureza, projetados para processamento úmido crítico de semicondutores. Projetados para extrema resistência química e estabilidade térmica, esses cestos de flores personalizáveis garantem limpeza uniforme e proteção do substrato em ambientes hostis de imersão ácida e alcalina durante toda a produção.