Vidraria laboratorial de PTFE (Teflon)
Portador de Wafers Circulares de 6 Polegadas em PTFE Resistente a Ácidos e Álcalis Cesto de Limpeza de Semicondutores Personalizável
Número do item : PL-CP55
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Resistência Química
- Universal (pH 0-14)
- Temperatura de Operação
- -200°C a +260°C
- Capacidade de Tamanho de Wafer
- 6 Polegadas (150mm)
Envio:
Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.
Por Que Nos Escolher
Processo de pedido fácil, produtos de qualidade e suporte dedicado para o sucesso do seu negócio.
Visão Geral do Produto
Este portador de wafers circular de PTFE de alta pureza é um instrumento essencial para o processamento úmido de semicondutores e protocolos avançados de limpeza laboratorial. Projetado especificamente para substratos de 6 polegadas, o equipamento serve como um recipiente robusto e quimicamente inerte que facilita a exposição uniforme a fluidos durante fases críticas de gravação, enxágue e remoção. Ao utilizar materiais de fluoropolímero virgens, esta unidade garante que wafers delicados de silício ou GaAs sejam protegidos contra estresse mecânico e contaminação por íons metálicos, mantendo a integridade de arquiteturas microeletrônicas sensíveis.
Utilizado principalmente dentro de salas limpas de fabricação de semicondutores, linhas de produção de células fotovoltaicas e laboratórios de química analítica de alto nível, o sistema se destaca em ambientes onde portadores de plástico, vidro ou metal tradicionais falhariam. O design circular de "cesto de flores" é otimizado para operações baseadas em imersão, permitindo contato máximo da área de superfície entre os agentes de limpeza e os substratos. Esta filosofia de design é crítica para alcançar os resultados de alto rendimento exigidos na fabricação moderna de eletrônicos.
Os compradores podem investir neste sistema com total confiança, sabendo que é apoiado por fabricação de precisão em CNC e um foco absoluto na pureza do material. As propriedades inerentes da construção de fluoropolímero — incluindo sua superfície antiaderente e extrema estabilidade térmica — garantem uma longa vida útil mesmo sob exposição contínua a banhos químicos agressivos. Esta unidade representa uma solução de alto desempenho para instalações que priorizam confiabilidade, repetibilidade e contaminação zero em seus processos de bancada úmida.
Principais Características
- Universalismo Químico Superior: Fabricado a partir de PTFE virgem 100%, este sistema resiste virtualmente a todos os solventes industriais, ácidos fortes (incluindo HF e Piranha) e álcalis concentrados, garantindo nenhuma degradação ao longo de anos de serviço.
- Geometria de Fendas de Precisão: A estrutura interna do portador apresenta fendas usinadas em CNC com passo e profundidade otimizados para proteger wafers de 6 polegadas, maximizando o fluxo de fluidos de gravação ou enxágue através da superfície do substrato.
- Faixa Operacional de Alta Temperatura: O equipamento mantém sua integridade estrutural e estabilidade dimensional em temperaturas que variam de níveis criogênicos até 260°C, tornando-o adequado para banhos químicos aquecidos.
- Perfil de Contaminação Zero: As características de não lixiviação do material impedem a introdução de metais traço ou extratos orgânicos, o que é crítico para manter níveis de pureza sub-ppb no processamento de semicondutores.
- Dinâmica de Fluidos Aprimorada: O design de cesto circular, frequentemente referido como cesto de flores, incorpora paredes perfuradas ou fendidas que impedem a estagnação do fluido e promovem uma concentração química uniforme em todo o banho.
- Proteção de Superfície de Baixo Atrito: A superfície naturalmente escorregadia do portador evita arranhões ou danos mecânicos nas bordas dos wafers durante o carregamento e descarregamento, reduzindo as taxas de refugo na produção de alto volume.
- Construção Monolítica Robusta: Ao contrário das alternativas moldadas, esta unidade é frequentemente usinada a partir de um único bloco de PTFE de alta densidade, eliminando pontos fracos, costuras ou áreas potenciais para aprisionamento de partículas.
- Configuração Personalizável: O sistema pode ser adaptado com contagens de fendas específicas, comprimentos de alça ou reforços estruturais para atender aos requisitos exclusivos de configurações personalizadas de bancada úmida ou ferramentas automatizadas de manuseio.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Benefício Principal |
|---|---|---|
| Limpeza RCA de Semicondutores | Imersão de wafers em soluções SC-1 e SC-2 para remover contaminantes orgânicos e iônicos. | Resistência total a agentes oxidantes e bases de alta temperatura. |
| Processos de Gravação Úmida | Remoção seletiva de camadas de material usando ácido fluorídrico (HF) ou ácido fosfórico. | O posicionamento preciso do substrato garante profundidade de gravação uniforme em todo o wafer. |
| Remoção de Fotolitografia | Remoção de camadas de fotoresiste usando solventes orgânicos agressivos ou soluções piranha. | O material não inchará ou se degradará quando exposto a solventes agressivos. |
| Texturização de Células Solares | Limpeza de alto volume e texturização de superfície de wafers de silício para eficiência aprimorada. | O design durável suporta os rigores do rendimento químico em escala industrial. |
| Enxágue Pós-CMP | Remoção de partículas de lama e produtos químicos após o polimento químico-mecânico. | Superfícies ultrassuaves impedem o reanexo de partículas e facilitam o enxágue fácil. |
| Preparação para Análise de Traços | Limpeza de componentes de laboratório de alta pureza em ácido nítrico ou clorídrico concentrado. | Elimina riscos de contaminação cruzada para análise elementar de ultra-traços. |
| Fabricação de MEMS | Manuseio especializado de substratos para a produção de microeletromecânicos sistemas. | Dimensões de fendas personalizáveis acomodam espessuras de substratos não padronizadas. |
Especificações Técnicas
Como uma linha de produtos personalizada, a série PL-CP55 é projetada para modularidade e integração de processos específicos. A tabela a seguir descreve as capacidades técnicas e configurações padrão disponíveis para a gama de portadores de 6 polegadas.
| Parâmetro | Especificação para PL-CP55 |
|---|---|
| Identificação do Produto | Portador de Wafers Circular PL-CP55 (Cesto de Flores) |
| Composição do Material | Politetrafluoretileno (PTFE) Virgem de Alta Pureza |
| Compatibilidade de Tamanho de Wafer | 6 Polegadas (150mm) Padrão (Tamanhos personalizados disponíveis) |
| Configuração | Cesto Circular com Fendas / Design de Flor Perfurada |
| Contagem de Fendas / Capacidade | Personalizável (Opções padrão: 10, 25 ou 50 fendas) |
| Temperatura de Operação | -200°C a +260°C (-328°F a +500°F) |
| Resistência Química | pH 0-14 (Resistência universal a ácidos/álcalis/solventes) |
| Largura da Fenda / Passo | Totalmente Personalizável por especificação do usuário |
| Tipo de Alça | Alça fixa integrada ou alça oscilante de PTFe destacável (Personalizável) |
| Acabamento Superficial | Usinado em CNC Suave (Ra ≤ 0,8μm típico) |
| Método de Fabricação | 100% Usinado em CNC de Precisão (Produto Personalizado) |
| Dimensões | Projetadas sob medida para se ajustar a dimensões específicas de bancada úmida ou tanque |
Por Que Escolher Este Portador de Wafers
- Confiabilidade de Grau Industrial: Este sistema é projetado para os ambientes de semicondutores mais exigentes, fornecendo desempenho consistente onde consumíveis de laboratório padrão falham.
- Personalização de Precisão: Reconhecemos que cada bancada úmida e processo químico é único; nossa fabricação CNC de ponta a ponta nos permite modificar o passo da fenda, dimensões gerais e recursos de manuseio de acordo com suas especificações exatas.
- Pureza de Material Superior: Usamos apenas PTFE virgem de grau premium para garantir que nenhum lixiviado ou partícula comprometa seus wafers de alto rendimento ou resultados analíticos sensíveis.
- Longevidade Excepcional: A combinação de inércia química e robustez mecânica garante que esta unidade forneça um custo total de propriedade significativamente menor em comparação com alternativas menos duráveis.
- Fluxo de Fluido Otimizado: Nossos designs priorizam a física do processamento úmido, garantindo que cada wafer receba exposição química uniforme para resultados repetíveis.
Para dimensões personalizadas, configurações específicas de fendas ou para discutir seus requisitos exclusivos de compatibilidade química, entre em contato com nossa equipe técnica hoje para um orçamento detalhado e consulta de design.
Confiado pelos Líderes da Indústria
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados
Suporte Circular para Wafers de PTFE de 6 Polegadas Resistente a Ácidos e Álcalis Cesta de Limpeza para Semicondutores Personalizável
Suportes circulares para wafers de PTFE de 6 polegadas de alta pureza, projetados para limpeza de semicondutores. Excelente resistência a ácidos e álcalis para limpeza piranha e etching com HF. Cestas usinadas com precisão e totalmente personalizáveis garantem o manuseio seguro de substratos durante rigorosos processos químicos úmidos, banhos de imersão e enxágue ultrassônico.
Porta-Wafer de PTFE de 6 Polegadas para Limpeza por Gravura Úmida, Resistente a Ácidos e Alcalis, Transportador de Wafer de Fluoropolímero
Portas-wafer de limpeza de PTFE de 6 polegadas de alta pureza, projetadas para processos agressivos de gravura úmida. Esses transportadores de fluoropolímero resistentes a ácidos oferecem estabilidade química excepcional e contaminação ultrabaixa para fabricação de semicondutores e aplicações exigentes de análise de traços em laboratório e processamento químico.
Suporte para Wafer de Silício em PTFE para Processos de Ataque Ácido e Limpeza Personalizável de 2, 4, 6 e 8 Polegadas Resistente a Altas Temperaturas
Suportes de wafer de silício em PTFE de alta pureza projetados para processos extremos de ataque ácido e limpeza. Otimizados para wafers de 2 a 8 polegadas, esses transportadores robustos e personalizáveis garantem manuseio livre de contaminação e estabilidade térmica nos ambientes de fabricação de semicondutores mais exigentes para compras B2B.
Cesta em PTFE Politetrafluoretileno para Limpeza de Pastilhas de Silício Pequenas, Porta-Amostras para Decapagem Ácida em Laboratório
Esta cesta de alta pureza em PTFE oferece excecional resistência química para limpeza de pastilhas de silício e decapagem ácida. Concebida para aplicações laboratoriais de precisão, garante penetração uniforme do fluido e manuseamento sem contaminação de substratos semicondutores delicados em ambientes químicos agressivos.
Suporte de Cesto de Limpeza de Laboratório em PTFE Personalizado – Porta Wafer Resistente a Ácidos e Bases de Alta Pureza, Sem Contaminação de Baixo Ruído de Fundo para Banhos Químicos
Descubra suportes de cesto de limpeza em PTFE personalizados de alta pureza desenvolvidos para semicondutores e análise de traços. Esses suportes resistentes a ácidos garantem lixiviação zero e níveis de fundo ultra-baixos, fornecendo desempenho confiável nos ambientes químicos mais exigentes para processos de limpeza laboratorial de precisão.
Suporte de Wafer de PTFE para Semicondutores 8 Polegadas Cassete de Gravação Resistente a HF para Limpeza Úmida
Otimize o processamento de semicondutores com este suporte de wafer premium de PTFE de 8 polegadas projetado para aplicações de limpeza úmida de alta pureza e gravação com HF. Nossas cassetes de fluoropolímero de grau industrial garantem máxima resistência química, durabilidade superior e manuseio preciso para ambientes sensíveis de produção em sala limpa.
Portador de Wafers Redondo de PTFE e Bandeja de Reação Isolante Resistente à Corrosão para a Indústria de Semicondutores e Eletrónica
Descubra portadores de wafers redondos de alto desempenho e bandejas de reação isolantes concebidas para a indústria eletrónica. Estes portadores concebidos por medida oferecem uma excecional resistência química, superior rigidez dielétrica e estabilidade térmica para exigentes processos de semicondutores e aplicações de fabricação de componentes eletrónicos de precisão.
Cesta de Limpeza de Wafer Quadrada de PTFE Suporte de Gravação de Fluoropolímero para Semicondutores Portador Personalizado de Wafer de Silício
Otimize os processos de bancada úmida para semicondutores com nossas cestas de limpeza quadradas personalizadas de PTFE. Projetados para resistência química extrema e manuseio de alta pureza, esses portadores de fluoropolímero oferecem durabilidade e precisão superiores para processos críticos de limpeza e gravação de wafer de silício.
Cesta de Limpeza de Porta-Wafer Personalizada em PTFE: Resistente à Corrosão, Não Lixiviante e Suporte para Experimentos de Polímeros de Alto Desempenho
Porta-wafers de PTFE personalizados e cestos de limpeza de alto desempenho projetados para pesquisa de semicondutores e polímeros. Com excelente resistência à corrosão e propriedades de lixiviação zero, essas soluções sob medida garantem processamento livre de contaminação em ambientes químicos exigentes para aplicações laboratoriais e industriais de alta precisão atualmente.
Porta-Wafer de Gravação em PTFE de Alta Pureza para Limpeza de Wafers de Silício Semicondutor e Resistência a Ácidos
Cassetes de wafer em PTFE premium projetados para gravação e limpeza de semicondutores. A resistência superior ao HF e a construção de alta pureza garantem o manuseio seguro de wafers de silício em processos úmidos críticos. Ideal para substratos de 2 a 12 polegadas em ambientes de sala limpa.
Cesta de flores portadora de wafer de PTFE de alta pureza para processamento de silício resistente à corrosão, material de laboratório de tamanho personalizado
Otimize a limpeza de semicondutores com nossos porta-wafers de PTFE de alta pureza, que apresentam resistência química extrema e dimensões totalmente personalizáveis para fluxos de trabalho de processamento de precisão de silício, incluindo procedimentos de limpeza RCA e gravação piranha em ambientes avançados de sala limpa.
Porta Wafers de PTFE Personalizado Cesto Floral Resistente Químico com Design de Alça para Limpeza de Semicondutores
Maximize o rendimento de semicondutores com porta wafers de PTFE personalizados e cestos florais. Projetados para resistência superior ao ácido fluorídrico e reagentes agressivos, esses sistemas de manuseio de alta pureza possuem alças ergonômicas e ranhuras usinadas com precisão CNC para limpeza de processo úmido segura e livre de contaminação.
Cesta de Limpeza de Wafer de PTFE de Alta Pureza Portador de Wafer de Silício Resistente a Ácidos Suporte de Gravação em Fluoropolímero
Garanta processamento de semicondutores livre de contaminação com nossas cestas de limpeza de wafer de PTFE de alta pureza. Projetadas para gravação e limpeza agressivas, esses portadores personalizáveis oferecem resistência química excepcional e estabilidade térmica para o manuseio de wafers de silício durante processos críticos de fabricação química úmida.
Cesta de Limpeza de Wafers em PTFE Personalizada, Resistente a Produtos Químicos, Suporte em Fluoropolímero para Gravação de Semicondutores e Processamento de Nova Energia
Otimize sua fabricação de semicondutores e nova energia com cestas de limpeza de wafers em PTFE personalizadas. Projetadas para resistência química extrema durante a gravação e limpeza RCA, esses suportes de fluoropolímero de alta pureza garantem a integridade do processo e durabilidade de longo prazo em ambientes industriais exigentes.
Cesto de Limpeza de PTFE para Semicondutores Suporte de Gravação a Úmido para Wafers de 12 Polegadas Resistente a Ácidos e Alcalis Portador de Fluoropolímero
Projetado para ambientes de semicondutores de alta pureza, este cesto de limpeza de wafers de PTFE de 12 polegadas garante excepcional resistência química durante processos críticos de gravação a úmido e limpeza. O design fabricado sob medida fornece suporte confiável para o wafer e máxima exposição a fluidos para fabricação de precisão.
Suporte de Limpeza Personalizado em PTFE Tipo Cesto de Flores, Resistente à Corrosão e de Baixo Background, Transportador de Wafer para Pesquisa Avançada de Polímeros
Descubra os nossos suportes de limpeza personalizados em PTFE de alta pureza tipo cesto de flores, projetados para resistência química extrema e desempenho de baixo background em pesquisas de materiais avançados. Estas soluções fabricadas com precisão garantem um enxágue eficiente e processamento livre de contaminação para aplicações laboratoriais e industriais exigentes de semicondutores.
Cesto de Limpeza Personalizado para Wafer de Semicondutor em PTFE - Suporte de Laboratório Resistente à Corrosão com Baixo Nível de Impurezas
Alcance pureza superior na fabricação de semicondutores com nossos cestos de limpeza personalizados em PTFE. Projetados para resistência química extrema e baixa interferência de fundo, esses suportes duráveis garantem processamento eficiente de wafers, drenagem rápida e desempenho confiável em ambientes de laboratório críticos de alta pureza.
Cesto de Limpeza para Fotomasco Personalizado em PTFE Resistente à Corrosão de 6 Polegadas com Duas Alças
Os cestos de limpeza personalizados em PTFE de 6 polegadas com duas alças e alto desempenho oferecem resistência química inigualável para processos úmidos de semicondutores e laboratórios. Esses cestos duráveis garantem manuseio seguro de amostras, drenagem rápida e limpeza sem contaminação em ácidos e solventes agressivos.
Suporte Personalizado de Manuseio de Wafer em PTFE Resistente à Corrosão para Processamento de Polissilício em Semicondutores de Alta Temperatura
Suportes personalizados premium de wafer em PTFE projetados para ambientes químicos extremos e processamento de semicondutores de alta temperatura. Esses transportadores resistentes à corrosão garantem manuseio de alta pureza, operação de baixa fricção e durabilidade excepcional para fluxos de trabalho críticos de fabricação de polissilício, fotovoltaicos e eletrônicos avançados.
Cestos de Limpeza de Wafer em PTFE Personalizados Suportes de Wafer de Silício para Semicondutores Cassetes de Fluoropolímero de Baixo Background
Cestos de limpeza de wafer em PTFE personalizados de alta pureza para processamento de semicondutores. Projetados para análise de traços com baixo background e resistência química agressiva, esses cassetes de fluoropolímero personalizados garantem dissolução zero e manuseio sem contaminação de wafers de silício em ambientes de sala limpa críticos e laboratórios industriais.