Produtos Produtos de PTFE (Teflon) Vidraria laboratorial de PTFE (Teflon) Porta-Wafer de PTFE de 6 Polegadas para Limpeza por Gravura Úmida, Resistente a Ácidos e Alcalis, Transportador de Wafer de Fluoropolímero
Alternar categorias
Porta-Wafer de PTFE de 6 Polegadas para Limpeza por Gravura Úmida, Resistente a Ácidos e Alcalis, Transportador de Wafer de Fluoropolímero

Vidraria laboratorial de PTFE (Teflon)

Porta-Wafer de PTFE de 6 Polegadas para Limpeza por Gravura Úmida, Resistente a Ácidos e Alcalis, Transportador de Wafer de Fluoropolímero

Número do item : PL-CP421

O preço varia com base em especificações e personalizações


Material
PTFE Virgem de Alta Pureza
Compatibilidade
Wafers de 6 Polegadas (150mm)
Personalização
Design CNC Totalmente Personalizável
ISO & CE icon

Envio:

Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.

Ver Especificações

Por Que Nos Escolher

Processo de pedido fácil, produtos de qualidade e suporte dedicado para o sucesso do seu negócio.

Processo Fácil Qualidade Garantida Suporte Dedicado

Visão Geral do Produto

Imagem do produto 1

Imagem do produto 2

Este transportador de limpeza de wafer de alta pureza é um componente essencial para a fabricação de semicondutores e ambientes de laboratório de precisão que exigem absoluta inércia química. Especificamente projetado para substratos de 6 polegadas (150mm), a unidade fornece uma plataforma segura e estável para transportar e processar wafers delicados através de banhos químicos agressivos. Usinado a partir de PTFE virgem de grau premium, este transportador se destaca em ambientes onde polímeros tradicionais ou metais falhariam devido à corrosão ou riscos de contaminação. As propriedades inerentes de antiaderência e baixa energia superficial do material garantem que os fluidos do processo escoem de forma eficiente, minimizando o arraste entre diferentes etapas de limpeza.

Projetado para os rigores da gravura úmida industrial, este sistema é indispensável para processos que envolvem ácido fluorídrico, ácido sulfúrico e soluções alcalinas fortes. Seus casos de uso principais incluem limpeza de wafers de silício, fabricação de células solares e preparação de substratos para deposição de filmes finos. Ao utilizar construção avançada de fluoropolímero, o equipamento proporciona um ambiente livre de contaminação, que é crítico para manter altas taxas de rendimento na microeletrônica. Seja utilizado em sistemas de bancada automatizados ou processos de imersão manual, a unidade mantém sua integridade estrutural e estabilidade dimensional, mesmo quando exposta a condições térmicas flutuantes e reagentes concentrados.

A confiabilidade é a pedra angular deste projeto. Cada unidade é fabricada para suportar as condições exigentes das operações de sala limpa, oferecendo resistência a longo prazo à degradação química, trincas por estresse e deformação térmica. A robustez deste sistema garante que ele possa ser reutilizado em milhares de ciclos sem lixiviar impurezas para fluxos de processo de alta pureza. Para equipes de compras e engenharia, isso representa uma solução de alto desempenho que equilibra a necessidade de extrema resistência química com a precisão exigida para o manuseio moderno de wafers. O foco em materiais de alto desempenho garante que o equipamento permaneça um ativo confiável na busca pela fabricação com zero defeitos.

Principais Características

  • Inércia Química Universal: Construído a partir de PTFE de alta pureza, esta unidade é virtualmente imune a ataques de quase todos os produtos químicos industriais, incluindo ácidos concentrados, bases e solventes orgânicos, garantindo que não haja lixiviação de íons metálicos ou contaminantes orgânicos.
  • Geometria de Fenda de Engenharia de Precisão: A arquitetura interna apresenta fendas usinadas em CNC projetadas para fornecer suporte máximo a wafers de 6 polegadas, minimizando a área de contato, o que reduz o risco de danos nas bordas e melhora o acesso de fluidos à superfície do wafer.
  • Estabilidade Térmica Superior: Este sistema mantém suas propriedades mecânicas em uma ampla faixa de temperatura, permitindo desempenho consistente tanto em limpeza criogênica quanto em banhos de gravura em alta temperatura, sem empenar ou ficar frágil.
  • Composição de Material de Alta Pureza: Utilizando apenas fluoropolímeros virgens, o equipamento é projetado para análise de traços e processos de grau semicondutor, onde até mesmo níveis de contaminação de partes por bilhão podem comprometer os resultados.
  • Dinâmica de Fluidos Otimizada: O design de estrutura aberta e o acabamento superficial liso facilitam o escoamento rápido de líquidos e o enxágue eficiente, impedindo o aprisionamento de reagentes agressivos e reduzindo a duração dos ciclos de limpeza.
  • Durabilidade e Longevidade Aprimoradas: Ao contrário das alternativas moldadas por injeção, esta unidade usinada em CNC oferece densidade estrutural superior e resistência ao desgaste físico, proporcionando uma vida útil significativamente maior em ambientes industriais.
  • Configuração Personalizável: Reconhecendo as diversas necessidades das fabs modernas, a capacidade interna, o passo das fendas e as configurações das alças podem ser adaptadas para atender a requisitos específicos de fluxo de trabalho ou interfaces de equipamentos.
  • Propriedades de Superfície Antiaderente: O coeficiente de atrito naturalmente baixo e a natureza hidrofóbica do material impedem a adesão de partículas e facilitam a descontaminação fácil após o uso.

Aplicações

Aplicação Descrição Principal Benefício
Gravura Úmida de Semicondutores Processamento de wafers de silício em banhos de HF, BOE ou ácido fosfórico quente. Evita contaminação metálica e sobrevive a químicas agressivas.
Fabricação de Células Solares Limpeza e texturização de substratos de silício para produção de células fotovoltaicas. Durabilidade de alto volume e resistência a soluções de texturização cáusticas.
Análise de Metais Traço Limpeza de vidraria de laboratório e substratos antes da análise ICP-MS. Níveis de fundo ultrabaixos e zero lixiviação de íons para dados precisos.
Fabricação de MEMS Manuseio de sistemas microeletromecânicos durante gravura por íons reativa profunda ou liberação úmida. Manuseio delicado com alta precisão dimensional para estruturas frágeis.
Deposição Química em Fase Vapor Pré-limpeza de substratos para garantir o crescimento de filmes finos de alta qualidade. Garante uma superfície atomicamente limpa, resistindo a ácidos de pré-tratamento.
Limpeza Farmacêutica Esterilização e limpeza de componentes de alta pureza em P&D farmacêutico. Material compatível com FDA o com excelente resistência a agentes de esterilização.
Processos de Eletrodeposição Segura substratos durante a deposição precisa de metal em banhos ácidos ou alcalinos. Isolamento elétrico e resistência completa a eletrólitos de deposição.

Especificações Técnicas

Como fabricante especializado focado em fluoropolímeros de alto desempenho, fornecemos soluções totalmente sob medida. A tabela a seguir descreve a estrutura personalizável para a série PL-CP421.

Categoria de Especificação Detalhes para PL-CP421
Número do Modelo PL-CP421
Material Base PTFE Virgem de Alta Pureza (PFA/TFM disponível sob solicitação)
Diâmetro Principal do Wafer 6 Polegadas (150mm) padrão
Capacidade do Wafer Totalmente Personalizável (ex: 25 fendas, 50 fendas ou contagens personalizadas)
Largura/Passo da Fenda Personalizável de acordo com a espessura do substrato e requisitos de espaçamento
Design da Alça Fixa, Destacável ou Estendida (Personalizada para profundidade do banho)
Resistência à Temperatura -200°C a +260°C (-328°F a +500°F)
Método de Fabricação Usinagem CNC de Precisão de 5 Eixos
Acabamento Superficial Ra < 0,8μm (Típico) ou polimento personalizado
Compatibilidade Química Universal (Exceto para metais alcalinos fundidos e flúor elementar)
Conformidade Grau Semicondutor / Grau de Análise de Traços

Por Que Escolher Este Produto

  • Padrões de Engenharia Premium: Cada unidade é fabricada usando tecnologia CNC avançada, garantindo que as tolerâncias sejam mantidas nos mais rigorosos padrões industriais para posicionamento repetível de wafers.
  • Integridade de Material Incomparável: Utilizamos apenas PTFE 100% virgem, evitando os enchimentos e materiais reciclados frequentemente encontrados em produtos de nível inferior que podem causar contaminação catastrófica em ambientes de sala limpa.
  • Personalização de Ponta a Ponta: De ângulos de fenda especializados a geometrias de alça exclusivas para robôs automatizados, nossa equipe de engenharia pode adaptar o design para se ajustar a qualquer bancada úmida ou configuração de laboratório existente.
  • Confiabilidade Comprovada a Longo Prazo: Projetado para imersão contínua nas substâncias mais corrosivas do mundo, este produto oferece um retorno excepcional sobre o investimento através da redução da frequência de substituição e proteção do rendimento dos lotes.
  • Suporte Técnico Especializado: Apoiado por décadas de experiência na fabricação de fluoropolímeros, fornecemos suporte abrangente desde a fase de design inicial até a produção em alto volume e implementação.

Nosso compromisso com a fabricação de precisão e ciência dos materiais garante que suas operações de processamento úmido permaneçam eficientes, limpas e consistentes; entre em contato conosco hoje para um orçamento personalizado ou para discutir seus requisitos específicos de manuseio de wafers.

Confiado pelos Líderes da Indústria

Nossos Clientes Parceiros
Veja mais perguntas frequentes sobre este produto

Folha de Dados do Produto

Porta-Wafer de PTFE de 6 Polegadas para Limpeza por Gravura Úmida, Resistente a Ácidos e Alcalis, Transportador de Wafer de Fluoropolímero

Catálogo de Categorias

Vidraria Laboratorial De Ptfe (Teflon)


SOLICITAR UM ORÇAMENTO

Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!

Produtos relacionados

Cesto de Limpeza para Fotomasco Personalizado em PTFE Resistente à Corrosão de 6 Polegadas com Duas Alças

Cesto de Limpeza para Fotomasco Personalizado em PTFE Resistente à Corrosão de 6 Polegadas com Duas Alças

Os cestos de limpeza personalizados em PTFE de 6 polegadas com duas alças e alto desempenho oferecem resistência química inigualável para processos úmidos de semicondutores e laboratórios. Esses cestos duráveis garantem manuseio seguro de amostras, drenagem rápida e limpeza sem contaminação em ácidos e solventes agressivos.

Ver detalhes
Suporte Circular para Wafers de PTFE de 6 Polegadas Resistente a Ácidos e Álcalis Cesta de Limpeza para Semicondutores Personalizável

Suporte Circular para Wafers de PTFE de 6 Polegadas Resistente a Ácidos e Álcalis Cesta de Limpeza para Semicondutores Personalizável

Suportes circulares para wafers de PTFE de 6 polegadas de alta pureza, projetados para limpeza de semicondutores. Excelente resistência a ácidos e álcalis para limpeza piranha e etching com HF. Cestas usinadas com precisão e totalmente personalizáveis garantem o manuseio seguro de substratos durante rigorosos processos químicos úmidos, banhos de imersão e enxágue ultrassônico.

Ver detalhes
Portador de Wafers Circulares de 6 Polegadas em PTFE Resistente a Ácidos e Álcalis Cesto de Limpeza de Semicondutores Personalizável

Portador de Wafers Circulares de 6 Polegadas em PTFE Resistente a Ácidos e Álcalis Cesto de Limpeza de Semicondutores Personalizável

Portadores de wafers de 6 polegadas em PTFE de alta pureza, projetados para processamento úmido crítico de semicondutores. Projetados para extrema resistência química e estabilidade térmica, esses cestos de flores personalizáveis garantem limpeza uniforme e proteção do substrato em ambientes hostis de imersão ácida e alcalina durante toda a produção.

Ver detalhes
Cesta em PTFE Politetrafluoretileno para Limpeza de Pastilhas de Silício Pequenas, Porta-Amostras para Decapagem Ácida em Laboratório

Cesta em PTFE Politetrafluoretileno para Limpeza de Pastilhas de Silício Pequenas, Porta-Amostras para Decapagem Ácida em Laboratório

Esta cesta de alta pureza em PTFE oferece excecional resistência química para limpeza de pastilhas de silício e decapagem ácida. Concebida para aplicações laboratoriais de precisão, garante penetração uniforme do fluido e manuseamento sem contaminação de substratos semicondutores delicados em ambientes químicos agressivos.

Ver detalhes
Cesta de Limpeza de Wafer Quadrada de PTFE Suporte de Gravação de Fluoropolímero para Semicondutores Portador Personalizado de Wafer de Silício

Cesta de Limpeza de Wafer Quadrada de PTFE Suporte de Gravação de Fluoropolímero para Semicondutores Portador Personalizado de Wafer de Silício

Otimize os processos de bancada úmida para semicondutores com nossas cestas de limpeza quadradas personalizadas de PTFE. Projetados para resistência química extrema e manuseio de alta pureza, esses portadores de fluoropolímero oferecem durabilidade e precisão superiores para processos críticos de limpeza e gravação de wafer de silício.

Ver detalhes
Cesto Floral Quadrado de PTFE para Limpeza de Wafers de Silício Personalizável para Gravação a Úmido de Semicondutores e Manuseio de Substratos

Cesto Floral Quadrado de PTFE para Limpeza de Wafers de Silício Personalizável para Gravação a Úmido de Semicondutores e Manuseio de Substratos

Cestos florais de limpeza quadrada de PTFE de alta pureza projetados para processamento de wafers de silício. Este suporte resistente à corrosão garante gravação a úmido segura e manuseio de substratos na fabricação de semicondutores. Dimensões e configurações totalmente personalizáveis estão disponíveis para atender aos requisitos específicos de bancadas úmidas de laboratório ou industriais.

Ver detalhes
Cesta de Limpeza de Wafer de PTFE de Alta Pureza Portador de Wafer de Silício Resistente a Ácidos Suporte de Gravação em Fluoropolímero

Cesta de Limpeza de Wafer de PTFE de Alta Pureza Portador de Wafer de Silício Resistente a Ácidos Suporte de Gravação em Fluoropolímero

Garanta processamento de semicondutores livre de contaminação com nossas cestas de limpeza de wafer de PTFE de alta pureza. Projetadas para gravação e limpeza agressivas, esses portadores personalizáveis oferecem resistência química excepcional e estabilidade térmica para o manuseio de wafers de silício durante processos críticos de fabricação química úmida.

Ver detalhes
Cesto de Limpeza Personalizado para Wafer de Semicondutor em PTFE - Suporte de Laboratório Resistente à Corrosão com Baixo Nível de Impurezas

Cesto de Limpeza Personalizado para Wafer de Semicondutor em PTFE - Suporte de Laboratório Resistente à Corrosão com Baixo Nível de Impurezas

Alcance pureza superior na fabricação de semicondutores com nossos cestos de limpeza personalizados em PTFE. Projetados para resistência química extrema e baixa interferência de fundo, esses suportes duráveis garantem processamento eficiente de wafers, drenagem rápida e desempenho confiável em ambientes de laboratório críticos de alta pureza.

Ver detalhes
Suporte de Cesto de Limpeza de Laboratório em PTFE Personalizado – Porta Wafer Resistente a Ácidos e Bases de Alta Pureza, Sem Contaminação de Baixo Ruído de Fundo para Banhos Químicos

Suporte de Cesto de Limpeza de Laboratório em PTFE Personalizado – Porta Wafer Resistente a Ácidos e Bases de Alta Pureza, Sem Contaminação de Baixo Ruído de Fundo para Banhos Químicos

Descubra suportes de cesto de limpeza em PTFE personalizados de alta pureza desenvolvidos para semicondutores e análise de traços. Esses suportes resistentes a ácidos garantem lixiviação zero e níveis de fundo ultra-baixos, fornecendo desempenho confiável nos ambientes químicos mais exigentes para processos de limpeza laboratorial de precisão.

Ver detalhes
Cesto de Limpeza de Wafers PTFE 4 Polegadas Rack de Gravação Resistente a Ácidos e Alcalis Portador de Máscaras Personalizado

Cesto de Limpeza de Wafers PTFE 4 Polegadas Rack de Gravação Resistente a Ácidos e Alcalis Portador de Máscaras Personalizado

Cestos de gravação em PTFE de engenharia de precisão, projetados para limpeza de wafers semicondutores e processamento químico. Estes racks de limpeza resistentes a ácidos e de alta pureza garantem contaminação zero em ambientes de laboratórios exigentes. Totalmente personalizáveis para atender dimensões específicas de máscaras industriais e wafers para aplicações avançadas de fabricação e pesquisa.

Ver detalhes
Suporte para Wafer de Silício em PTFE para Processos de Ataque Ácido e Limpeza Personalizável de 2, 4, 6 e 8 Polegadas Resistente a Altas Temperaturas

Suporte para Wafer de Silício em PTFE para Processos de Ataque Ácido e Limpeza Personalizável de 2, 4, 6 e 8 Polegadas Resistente a Altas Temperaturas

Suportes de wafer de silício em PTFE de alta pureza projetados para processos extremos de ataque ácido e limpeza. Otimizados para wafers de 2 a 8 polegadas, esses transportadores robustos e personalizáveis garantem manuseio livre de contaminação e estabilidade térmica nos ambientes de fabricação de semicondutores mais exigentes para compras B2B.

Ver detalhes
Cesta de Limpeza Úmida em PTFE de Alta Pureza, Suporte de Gravação para Wafer Único de 4 Polegadas, Porta-máscaras Personalizável

Cesta de Limpeza Úmida em PTFE de Alta Pureza, Suporte de Gravação para Wafer Único de 4 Polegadas, Porta-máscaras Personalizável

Cestas de limpeza úmida em PTFE de alta pureza oferecem resistência química excepcional para processamento de wafers semicondutores. Esses suportes de gravação personalizáveis garantem limpeza por imersão sem contaminação e manuseio seguro para substrados delicados em ambientes laboratoriais e industriais exigentes. Entre em contato para soluções de fluoropolímero sob medida.

Ver detalhes
Suporte Personalizado de Manuseio de Wafer em PTFE Resistente à Corrosão para Processamento de Polissilício em Semicondutores de Alta Temperatura

Suporte Personalizado de Manuseio de Wafer em PTFE Resistente à Corrosão para Processamento de Polissilício em Semicondutores de Alta Temperatura

Suportes personalizados premium de wafer em PTFE projetados para ambientes químicos extremos e processamento de semicondutores de alta temperatura. Esses transportadores resistentes à corrosão garantem manuseio de alta pureza, operação de baixa fricção e durabilidade excepcional para fluxos de trabalho críticos de fabricação de polissilício, fotovoltaicos e eletrônicos avançados.

Ver detalhes
Suporte de Tubos de Injeção de Amostras de PTFE Resistente à Corrosão de Alta Pureza 6 Furos Compatível com Vasos de Reação de Laboratório

Suporte de Tubos de Injeção de Amostras de PTFE Resistente à Corrosão de Alta Pureza 6 Furos Compatível com Vasos de Reação de Laboratório

Suporte de tubos de injeção de amostras de PTFE de 6 furos de alta qualidade projetado para ambientes de laboratório ultrapuros. Este suporte resistente à corrosão garante contaminação zero por metais pesados e compatibilidade total com vasos de reação. Ideal para análise de traços e transferência de fluidos de alto desempenho em processos químicos exigentes.

Ver detalhes
Cesto de Limpeza de PTFE para Semicondutores Suporte de Gravação a Úmido para Wafers de 12 Polegadas Resistente a Ácidos e Alcalis Portador de Fluoropolímero

Cesto de Limpeza de PTFE para Semicondutores Suporte de Gravação a Úmido para Wafers de 12 Polegadas Resistente a Ácidos e Alcalis Portador de Fluoropolímero

Projetado para ambientes de semicondutores de alta pureza, este cesto de limpeza de wafers de PTFE de 12 polegadas garante excepcional resistência química durante processos críticos de gravação a úmido e limpeza. O design fabricado sob medida fornece suporte confiável para o wafer e máxima exposição a fluidos para fabricação de precisão.

Ver detalhes
Fabricante de peças de teflon PTFE personalizadas Rack de limpeza de substrato de vidro condutor

Fabricante de peças de teflon PTFE personalizadas Rack de limpeza de substrato de vidro condutor

Cestos de flores em PTFE de alta pureza para limpeza em laboratório, resistentes a produtos químicos e temperaturas extremas. Desenhos personalizados disponíveis para aplicações médicas e de semicondutores.

Ver detalhes
Fabricante de peças de teflon PTFE personalizadas Rack de limpeza PTFE

Fabricante de peças de teflon PTFE personalizadas Rack de limpeza PTFE

Cestos para flores em PTFE de elevada pureza para utilização em laboratórios e semicondutores. Resistente a produtos químicos, -180°C a +250°C, tamanhos personalizados disponíveis. Contacte a KINTEK hoje mesmo!

Ver detalhes
Cesta de Limpeza de Porta-Wafer Personalizada em PTFE: Resistente à Corrosão, Não Lixiviante e Suporte para Experimentos de Polímeros de Alto Desempenho

Cesta de Limpeza de Porta-Wafer Personalizada em PTFE: Resistente à Corrosão, Não Lixiviante e Suporte para Experimentos de Polímeros de Alto Desempenho

Porta-wafers de PTFE personalizados e cestos de limpeza de alto desempenho projetados para pesquisa de semicondutores e polímeros. Com excelente resistência à corrosão e propriedades de lixiviação zero, essas soluções sob medida garantem processamento livre de contaminação em ambientes químicos exigentes para aplicações laboratoriais e industriais de alta precisão atualmente.

Ver detalhes
Cesta de Limpeza de Wafers em PTFE Personalizada, Resistente a Produtos Químicos, Suporte em Fluoropolímero para Gravação de Semicondutores e Processamento de Nova Energia

Cesta de Limpeza de Wafers em PTFE Personalizada, Resistente a Produtos Químicos, Suporte em Fluoropolímero para Gravação de Semicondutores e Processamento de Nova Energia

Otimize sua fabricação de semicondutores e nova energia com cestas de limpeza de wafers em PTFE personalizadas. Projetadas para resistência química extrema durante a gravação e limpeza RCA, esses suportes de fluoropolímero de alta pureza garantem a integridade do processo e durabilidade de longo prazo em ambientes industriais exigentes.

Ver detalhes
Cestos de Limpeza de Wafer em PTFE Personalizados Suportes de Wafer de Silício para Semicondutores Cassetes de Fluoropolímero de Baixo Background

Cestos de Limpeza de Wafer em PTFE Personalizados Suportes de Wafer de Silício para Semicondutores Cassetes de Fluoropolímero de Baixo Background

Cestos de limpeza de wafer em PTFE personalizados de alta pureza para processamento de semicondutores. Projetados para análise de traços com baixo background e resistência química agressiva, esses cassetes de fluoropolímero personalizados garantem dissolução zero e manuseio sem contaminação de wafers de silício em ambientes de sala limpa críticos e laboratórios industriais.

Ver detalhes