Vidraria laboratorial de PTFE (Teflon)
Suporte Circular para Wafers de PTFE de 6 Polegadas Resistente a Ácidos e Álcalis Cesta de Limpeza para Semicondutores Personalizável
Número do item : PL-CP207
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Composição do Material
- PTFE Virgem de Alta Pureza / PFA Personalizável
- Resistência Química
- Resistência Universal a Ácidos, Álcalis e Solventes
- Processo de Fabricação
- Usinagem e Fabricação CNC Totalmente Personalizada
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Visão Geral do Produto


Este sistema de manuseio de substratos de alta pureza é projetado especificamente para as rigorosas demandas da fabricação de semicondutores e ambientes avançados de química úmida. Projetado para facilitar a limpeza, etching e enxágue seguros e eficientes de wafers de 6 polegadas (150mm), esta unidade serve como uma interface crítica entre substratos de silício delicados e reagentes químicos agressivos. Ao utilizar construção em fluoropolímero de grau premium, o sistema garante que os riscos de contaminação sejam minimizados enquanto mantém a integridade estrutural nas condições de processamento mais voláteis. A geometria circular é otimizada para compatibilidade com tanques de processo padrão, fornecendo uma plataforma segura e estável para componentes de alto valor.
Utilizado principalmente nas indústrias de microeletrônica, energia solar e semicondutores compostos, o equipamento se destaca em protocolos de limpeza de múltiplos estágios, incluindo limpeza RCA, etching piranha e imersões em ácido fluorídrico (HF). É indispensável para instalações que realizam fotolitografia, pós-processamento de polimento químico-mecânico (CMP) e agitação ultrassônica de substratos. O design foca em maximizar a troca e drenagem de fluidos, garantindo que os reagentes entrem em contato com cada superfície do wafer de maneira uniforme, evitando o aprisionamento de contaminantes ou líquido estagnado entre as etapas de processamento.
Engenheiros e equipes de compras podem confiar nesta unidade para consistência operacional de longo prazo. Diferente de plásticos padrão que podem degradar ou lixiviar íons quando expostos a ácidos concentrados e temperaturas elevadas, este sistema aproveita a estabilidade molecular única dos fluoropolímeros de alto desempenho. O resultado é um transportador robusto e não reativo que suporta ciclos térmicos repetidos e imersão prolongada sem comprometer a pureza do banho químico ou a integridade dos wafers sendo processados. Cada unidade é um testemunho da fabricação CNC de precisão, refletindo um compromisso com a excelência técnica no manuseio de fluidos laboratorial e industrial.
Características Principais
- Inércia Química Superior: Construído em PTFE premium, o sistema é praticamente inalterado por quase todos os produtos químicos industriais, incluindo ácido sulfúrico concentrado, ácido nítrico e soluções alcalinas fortes, garantindo contaminação zero do fluxo do processo.
- Dinâmica de Fluidos Otimizada: O transportador possui ranhuras e orifícios de fluxo usinados com precisão, projetados para facilitar a penetração rápida do reagente e drenagem completa, essencial para etching uniforme e secagem sem estrias.
- Faixa de Estabilidade Térmica: Esta unidade mantém sua resistência mecânica e estabilidade dimensional em um amplo espectro de temperaturas, permitindo transição perfeita entre banhos de etching resfriados e ciclos de limpeza aquecidos sem empenamento.
- Baixa Energia Superficial: As propriedades naturalmente antiaderentes do material fluoropolímero previnem a adesão de partículas e resíduos orgânicos, tornando o equipamento fácil de limpar e manter em níveis de pureza de grau para semicondutores.
- Fabricação CNC de Precisão: Cada cesta é fabricada usando técnicas avançadas de usinagem CNC, garantindo superfícies ultra lisas e tolerâncias apertadas que previnem estresse físico ou arranhões nas bordas delicadas dos wafers.
- Fornecimento de Material de Alta Pureza: Utilizamos apenas PTFE virgem de alto peso molecular, que é inerentemente livre de cargas, pigmentos e impurezas metálicas, atendendo aos rigorosos requisitos de instalações de fabricação sub-mícron.
- Design Ergonômico e Modular: A estrutura circular é projetada para fácil manuseio manual ou integração com braços robóticos automatizados, apresentando pontos de pegada seguros que minimizam o risco de erro do operador durante transferências críticas.
- Durabilidade Mecânica: Apesar de sua maciez química, o design estrutural da cesta proporciona excelente resistência a impactos e capacidade de carga, garantindo que possa suportar lotes completos de wafers durante enxágue de alta velocidade ou agitação ultrassônica.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Benefício Principal |
|---|---|---|
| Processo de Limpeza RCA | Usado para remover resíduos orgânicos, finas camadas de óxido e contaminação iônica de wafers de silício usando soluções SC-1 e SC-2. | Alta resistência térmica e química previne degradação do transportador durante imersão em banho aquecido. |
| Etching Piranha | Manuseio de wafers em uma mistura de ácido sulfúrico e peróxido de hidrogênio para remover matéria orgânica pesada. | Resistência excepcional a ambientes oxidativos agressivos garante longa vida útil do equipamento. |
| Imersões em Ácido Fluorídrico (HF) | Remoção de camadas de óxido sacrificiais ou óxidos nativos de superfícies de silício em várias concentrações de HF. | A pureza do material previne a introdução de íons metálicos no ambiente de etching sensível. |
| Enxágue Pós-CMP | Transporte de wafers através de ciclos de limpeza após o Polimento Químico-Mecânico para remover partículas de slurry. | Superfícies lisas e antiaderentes previnem o aprisionamento de partículas e facilitam a limpeza ultrassônica eficaz. |
| Fabricação de Células Solares | Processamento de wafers de silício monocristalino ou policristalino de 6 polegadas durante etapas de texturização e difusão de fósforo. | Construção robusta suporta alto volume de produção em linhas de produção industrial exigentes. |
| Fotolitografia | Suporte a substratos durante o desenvolvimento e remoção de fotoresist usando solventes e removedores especializados. | Compatibilidade universal com solventes previne inchamento ou amolecimento da estrutura do transportador. |
| Limpeza Ultrassônica | Transporte de componentes delicados em banhos ultrassônicos ou megassônicos para remoção de alta precisão de contaminantes. | Rigidez estrutural permite transmissão eficiente de energia acústica para as superfícies dos wafers. |
| Etching de Semicondutores Compostos | Processamento de wafers de GaAs, InP ou SiC em misturas químicas especializadas para fabricação de dispositivos optoeletrônicos. | Geometria de ranhura personalizável acomoda várias espessuras de wafer e materiais de substrato frágeis. |
Especificações Técnicas
| Parâmetro | Detalhe da Especificação para PL-CP207 |
|---|---|
| Identificador do Modelo | PL-CP207 |
| Construção do Material | PTFE Virgem de Alta Pureza (Opções personalizadas em PFA disponíveis) |
| Compatibilidade com Tamanho de Wafer | 6 Polegadas / 150mm de Diâmetro |
| Configuração Geométrica | Cesta de Limpeza Circular / Tipo Cesta Flor |
| Compatibilidade Química | Resistência universal (Ácidos, Bases, Solventes, Oxidantes) |
| Tolerância de Temperatura | Adequado para processamento criogênico até alta temperatura |
| Capacidade de Personalização | Dimensões, número de ranhuras e configurações de alça totalmente personalizáveis |
| Acabamento Superficial | Usinado com precisão, ultra liso, não poroso |
| Capacidade do Lote | Projetado sob medida para os requisitos específicos de quantidade de wafers do cliente |
| Método de Fabricação | Usinagem CNC Sob Medida / Fabricação Personalizada |
Por Que Escolher Este Produto
- Qualidade de Material Intransigente: Utilizamos apenas o mais alto grau de fluoropolímeros, garantindo que cada transportador atenda aos rigorosos requisitos de análise de traços da indústria moderna de semicondutores.
- Personalização Especializada: Reconhecendo que cada bancada úmida e linha de processo é única, oferecemos fabricação CNC personalizada de ponta a ponta para adaptar as dimensões, espaçamento das ranhuras e designs das alças às suas necessidades operacionais específicas.
- Longevidade Industrial Comprovada: Nossos produtos são projetados para durabilidade, oferecendo um custo total de propriedade significativamente menor comparado a transportadores comuns que requerem substituição frequente devido a trincas por estresse químico.
- Controle Rigoroso de Contaminação: Ao focar exclusivamente em fluoropolímeros de alto desempenho, eliminamos o risco de contaminação cruzada inerente a ambientes de fabricação multi-materiais.
- Suporte de Engenharia Responsivo: Nossa equipe técnica trabalha diretamente com engenheiros de compras e processos para garantir que o produto final se integre perfeitamente aos fluxos de trabalho laboratoriais ou de produção existentes.
Para requisitos especializados ou para receber uma cotação personalizada para sua aplicação específica, entre em contato com nossa equipe de vendas técnicas para uma solução sob medida.
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Folha de Dados do Produto
Suporte Circular para Wafers de PTFE de 6 Polegadas Resistente a Ácidos e Álcalis Cesta de Limpeza para Semicondutores Personalizável
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